Dalam proses produksi semikonduktor, pemotongan wafer merupakan langkah penting yang menuntut presisi dan stabilitas tinggi dari peralatan. Basis mesin granit ZHHIMG® menawarkan beberapa keunggulan tersendiri saat digunakan dalam mesin pemotong wafer, menjadikannya pilihan ideal untuk aplikasi yang menantang ini.
Stabilitas Luar Biasa Granit ZHHIMG®, dengan kepadatan sekitar 3100 kg/m³, menyediakan fondasi yang kokoh untuk mesin pemotong wafer. Kepadatan yang tinggi menghasilkan stabilitas yang sangat baik, meminimalkan potensi gerakan atau getaran selama proses pemotongan. Stabilitas ini sangat penting karena getaran sekecil apa pun dapat menyebabkan alat pemotong menyimpang dari jalur yang diinginkan, yang mengakibatkan pemotongan yang tidak akurat dan wafer yang rusak. Berbeda dengan material dengan kepadatan yang lebih rendah, granit ZHHIMG® memastikan bahwa kepala pemotong tetap berada pada posisi yang tepat, yang memungkinkan produksi pemotongan berkualitas tinggi dan konsisten di seluruh wafer.
Ekspansi Termal RendahFasilitas manufaktur semikonduktor sering kali memiliki kontrol suhu yang ketat, tetapi fluktuasi kecil masih dapat terjadi. Granit dari ZHHIMG® memiliki koefisien ekspansi termal yang sangat rendah. Ini berarti bahwa saat suhu berubah sedikit dalam lingkungan manufaktur, alas mesin granit tidak akan mengembang atau menyusut secara signifikan. Dalam pemotongan wafer, di mana toleransi presisi berada dalam kisaran mikrometer atau bahkan nanometer, perubahan dimensi yang disebabkan oleh termal dapat menjadi bencana. Ekspansi termal rendah dari granit ZHHIMG® membantu menjaga keselarasan komponen mesin pemotong, memastikan bahwa proses pemotongan tetap akurat terlepas dari variasi suhu yang kecil.
Peredam Getaran yang Lebih BaikSelama pemotongan wafer, alat pemotong menghasilkan getaran. Jika getaran ini tidak diredam secara efektif, getaran tersebut dapat berpindah ke wafer, yang menyebabkan terkelupasnya atau kerusakan lainnya. Granit ZHHIMG® memiliki sifat peredam getaran alami. Struktur internalnya, yang terbentuk selama periode geologis yang panjang, memungkinkannya menyerap dan menghilangkan getaran dengan cepat. Ini merupakan keuntungan signifikan dibandingkan beberapa alas mesin berbahan dasar logam, yang dapat menyalurkan getaran dengan lebih mudah. Dengan mengurangi getaran, alas mesin granit ZHHIMG® berkontribusi pada operasi pemotongan yang lebih halus, menghasilkan potongan yang lebih bersih dan wafer berkualitas lebih tinggi.
Ketahanan Aus yang TinggiMesin pemotong wafer digunakan terus-menerus dalam produksi semikonduktor bervolume tinggi. Proses pemotongan membuat dasar mesin mengalami tekanan dan gesekan mekanis. Kekerasan tinggi dan sifat tahan aus granit ZHHIMG® memungkinkan dasar mesin menahan gaya-gaya ini dalam jangka waktu lama tanpa keausan yang signifikan. Ketahanan ini berarti bahwa dasar mesin dapat mempertahankan akurasi dan kinerja dimensinya selama masa pakai yang panjang. Hal ini mengurangi kebutuhan untuk penggantian yang sering atau perawatan yang mahal karena masalah yang berhubungan dengan keausan, yang pada akhirnya menghemat waktu dan uang bagi produsen semikonduktor.
Kelembaman KimiaLingkungan produksi semikonduktor dapat memaparkan peralatan ke berbagai bahan kimia yang digunakan dalam pembersihan, pengetsaan, atau proses lainnya. Granit ZHHIMG® bersifat lembam secara kimia, tahan terhadap korosi dari bahan kimia ini. Properti ini memastikan bahwa integritas alas mesin tetap utuh, bahkan saat terpapar zat kimia keras. Properti ini membantu menjaga stabilitas dan keakuratan mesin pemotong wafer dari waktu ke waktu, karena korosi kimia dapat menyebabkan deformasi atau penurunan kinerja alas mesin.
Singkatnya, alas mesin granit ZHHIMG® menawarkan kombinasi stabilitas, ketahanan termal, peredaman getaran, ketahanan aus, dan kelembaman kimia yang sangat bermanfaat untuk mesin pemotong wafer. Saat mempertimbangkan peningkatan atau pembelian baru untuk peralatan pemotong wafer, memilih mesin dengan alas mesin granit ZHHIMG® adalah keputusan bijak yang dapat meningkatkan kualitas dan efisiensi proses manufaktur semikonduktor.
Waktu posting: 03-Jun-2025