Granit telah umum digunakan dalam industri semikonduktor untuk pembuatan peralatan presisi, termasuk peralatan pemrosesan wafer. Hal ini dikarenakan sifat material yang sangat baik seperti kekakuan tinggi, ekspansi termal rendah, dan peredaman getaran tinggi. Granit menyediakan permukaan yang stabil dan datar, yang penting dalam produksi sirkuit elektronik kecil pada wafer.
Saat menggunakan granit dalam peralatan pemrosesan wafer, penting untuk mengambil tindakan pencegahan yang tepat guna memastikan efisiensi dan keawetan maksimum. Berikut ini beberapa kiat untuk menggunakan dan merawat granit dengan benar.
1. Penanganan dan pemasangan yang tepat
Granit merupakan material yang sangat berat dan rapuh sehingga memerlukan penanganan dan pemasangan yang tepat. Sangat penting untuk memastikan bahwa permukaannya rata sebelum pemasangan. Ketidakrataan apa pun dapat menyebabkan kerusakan pada peralatan, yang dapat memengaruhi kualitas wafer yang dihasilkan. Granit harus ditangani dengan hati-hati dan harus diangkut serta dipasang dengan bantuan peralatan khusus.
2. Pembersihan rutin
Peralatan pengolahan wafer yang menggunakan granit perlu dibersihkan secara berkala untuk mencegah penumpukan serpihan dan kotoran di permukaan. Penumpukan serpihan dapat menyebabkan goresan atau menyebabkan terbentuknya retakan, yang dapat memengaruhi kualitas wafer yang dihasilkan. Kain lembut dan larutan sabun ringan sudah cukup untuk membersihkan permukaan granit. Deterjen dan bahan kimia keras harus dihindari karena dapat merusak permukaan.
3. Pemeliharaan preventif
Perawatan preventif sangat penting untuk memastikan bahwa peralatan pemrosesan wafer berfungsi secara optimal. Peralatan dan permukaan granit harus diperiksa secara berkala, dan tanda-tanda kerusakan harus segera diatasi. Hal ini dapat membantu mendeteksi masalah sejak dini dan mencegahnya berkembang menjadi masalah yang lebih besar yang memerlukan biaya perbaikan yang lebih mahal.
4. Hindari siklus termal
Granit sensitif terhadap perubahan suhu, dan siklus termal harus dihindari. Perubahan suhu yang cepat dapat menyebabkan granit memuai dan menyusut, yang mengakibatkan retak atau melengkungnya permukaan. Menjaga suhu yang stabil di ruang pemrosesan dapat membantu mencegah terjadinya hal ini. Selain itu, penting untuk menghindari meletakkan benda panas di permukaan granit guna mencegah guncangan termal.
Kesimpulannya, granit merupakan material yang umum digunakan dalam peralatan pemrosesan wafer karena sifat-sifatnya yang unggul yang berkontribusi pada produksi wafer berkualitas tinggi. Untuk memastikan efisiensi dan keawetan maksimum, penanganan yang tepat, pembersihan rutin, pemeliharaan preventif, dan menghindari siklus termal sangatlah penting. Praktik-praktik ini dapat membantu menjaga peralatan dalam kondisi prima, menghasilkan produktivitas optimal dan wafer berkualitas tinggi.
Waktu posting: 27-Des-2023