Di bidang inspeksi wafer semikonduktor, kemurnian lingkungan ruang bersih berhubungan langsung dengan hasil produk. Karena presisi proses pembuatan chip terus meningkat, persyaratan untuk platform pembawa peralatan deteksi menjadi semakin ketat. Platform granit, dengan karakteristik pelepasan ion logam nol dan polusi partikel rendah, telah melampaui bahan baja tahan karat tradisional dan menjadi solusi pilihan untuk peralatan inspeksi wafer.
Granit adalah batuan beku alami yang sebagian besar terdiri dari mineral non-logam seperti kuarsa, feldspar, dan mika. Karakteristik ini memberinya keuntungan karena tidak melepaskan ion logam sama sekali. Sebaliknya, baja tahan karat, sebagai paduan logam seperti besi, kromium, dan nikel, rentan terhadap korosi elektrokimia pada permukaannya karena pengikisan uap air dan gas asam atau basa dalam lingkungan ruang bersih, yang mengakibatkan pengendapan ion logam seperti Fe²⁺ dan Cr³⁺. Setelah ion-ion kecil ini menempel pada permukaan wafer, mereka akan mengubah sifat listrik bahan semikonduktor dalam proses selanjutnya seperti fotolitografi dan etsa, menyebabkan pergeseran tegangan ambang transistor, dan bahkan menyebabkan korsleting di sirkuit. Data uji lembaga profesional menunjukkan bahwa setelah platform granit terus-menerus terpapar pada suhu ruang bersih dan lingkungan kelembapan yang disimulasikan (23±0,5℃, 45%±5% RH) selama 1000 jam, pelepasan ion logam lebih rendah dari batas deteksi (<0,1ppb). Tingkat kerusakan wafer yang disebabkan oleh kontaminasi ion logam saat menggunakan platform baja tahan karat dapat mencapai 15% hingga 20%.
Dalam hal pengendalian kontaminasi partikel, platform granit juga berkinerja sangat baik. Ruang bersih memiliki persyaratan yang sangat tinggi untuk konsentrasi partikel tersuspensi di udara. Misalnya, di ruang bersih ISO Kelas 1, jumlah partikel 0,1μm yang diizinkan per meter kubik tidak melebihi 10. Bahkan jika platform baja tahan karat telah menjalani perawatan pemolesan, platform tersebut mungkin masih menghasilkan serpihan logam atau kerak oksida yang terkelupas karena gaya eksternal seperti getaran peralatan dan operasi personel, yang dapat mengganggu jalur optik deteksi atau menggores permukaan wafer. Platform granit, dengan struktur mineral padat (kepadatan ≥2,7g/cm³) dan kekerasan tinggi (6-7 pada skala Mohs), tidak rentan terhadap keausan atau kerusakan selama penggunaan jangka panjang. Pengukuran yang terukur menunjukkan bahwa platform tersebut dapat mengurangi konsentrasi partikel tersuspensi di udara area peralatan deteksi lebih dari 40% dibandingkan dengan platform baja tahan karat, yang secara efektif mempertahankan standar mutu ruang bersih.
Selain karakteristiknya yang bersih, kinerja platform granit secara menyeluruh juga jauh melampaui baja tahan karat. Dalam hal stabilitas termal, koefisien ekspansi termalnya hanya (4-8) ×10⁻⁶/℃, kurang dari setengah baja tahan karat (sekitar 17×10⁻⁶/℃), yang dapat mempertahankan akurasi posisi peralatan deteksi dengan lebih baik saat suhu di ruang bersih berfluktuasi. Karakteristik redaman yang tinggi (rasio redaman > 0,05) dapat dengan cepat meredam getaran peralatan dan mencegah probe deteksi bergetar. Ketahanan korosi alaminya memungkinkannya tetap stabil bahkan saat terkena pelarut fotoresist, gas etsa, dan bahan kimia lainnya tanpa memerlukan perlindungan pelapisan tambahan.
Saat ini, platform granit banyak digunakan di pabrik produksi wafer canggih. Data menunjukkan bahwa setelah mengadopsi platform granit, tingkat kesalahan penilaian deteksi partikel permukaan wafer telah menurun hingga 60%, siklus kalibrasi peralatan telah diperpanjang tiga kali lipat, dan biaya produksi keseluruhan telah turun hingga 25%. Seiring dengan industri semikonduktor yang bergerak menuju presisi yang lebih tinggi, platform granit, dengan keunggulan utamanya seperti pelepasan ion logam nol dan polusi partikel rendah, akan terus memberikan dukungan yang stabil dan andal untuk pemeriksaan wafer, menjadi kekuatan penting yang mendorong kemajuan industri.
Waktu posting: 20-Mei-2025